文献
J-GLOBAL ID:200902166991367281
整理番号:94A0380465
Some Oxide Films Deposited by Reactive Low Voltage Plasma Assisted Evaporation.
著者 (5件):
LIU X
(Zhejiang Univ., Hangzhou, CHN)
,
WANG B
(Zhejiang Univ., Hangzhou, CHN)
,
WANG G
(Zhejiang Univ., Hangzhou, CHN)
,
GU P
(Zhejiang Univ., Hangzhou, CHN)
,
TANG J
(Zhejiang Univ., Hangzhou, CHN)
資料名:
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻:
2000
ページ:
133-139
発行年:
1993年
JST資料番号:
D0943A
ISSN:
0277-786X
CODEN:
PSISDG
資料種別:
会議録 (C)
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)