文献
J-GLOBAL ID:200902167038651882
整理番号:93A0357824
単色化されたX線ビームW-Lβによって励起されたSi(001)ウエハの全反射蛍光X線分析の主ピーク形状 II
Main Peak Profiles of Total Reflection X-Ray Fluorescence Analysis of Si(001) Wafers Excited by Monochromatic X-Ray Beam W-Lβ(II).
著者 (4件):
YAKUSHIJI K
(Showa Denko Silicon K.K., Saitama)
,
OHKAWA S
(Showa Denko Silicon K.K., Saitama)
,
YOSHINAGA A
(Showa Denko Silicon K.K., Saitama)
,
HARADA J
(Nagoya Univ., Nagoya)
資料名:
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻:
32
号:
3A
ページ:
1191-1196
発行年:
1993年03月
JST資料番号:
G0520B
ISSN:
0021-4922
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
日本 (JPN)
言語:
英語 (EN)