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文献
J-GLOBAL ID：200902167142552047
整理番号：93A0725013
シリコンのプラズマ酸化とその応用についてのレビュー
A review of the plasma oxidation of silicon and its applications.
TAYLOR S
(Univ. Liverpool, Liverpool, GBR)
,
ZHANG J F
(Univ. Liverpool, Liverpool, GBR)
,
ECCLESTON W
(Univ. Liverpool, Liverpool, GBR)
資料名：
Semiconductor Science and Technology
(Semiconductor Science and Technology)
巻： 8 号： 7 ページ： 1426-1433 発行年： 1993年07月
JST資料番号： E0503B ISSN： 0268-1242 CODEN： SSTEET 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 文献レビュー 発行国： イギリス (GBR) 言語： 英語 (EN)
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