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文献
J-GLOBAL ID:200902167156272845   整理番号:93A0350300

パターニングした(001)基板上に分子線エピタクシー法で成長させた(111)Bマイクロファセット上のN-AlGaAs/GaAsヘテロ接合における二次元電子ガスの形成

Formation of Two-Dimensional Electron Gas in N-AlGaAs/GaAs Heterojunctions on (111)B Microfacets Grown by Molecular Beam Epitaxy on a Patterned (001) Substrate.
著者 (6件):
NAKAMURA Y
(JRDC, Tokyo)
TSUCHIYA M
(JRDC, Tokyo)
KOSHIBA S
(JRDC, Tokyo)
NOGE H
(JRDC, Tokyo)
KANO H
(JRDC, Tokyo)
SAKAKI H
(JRDC, Tokyo)

資料名:
Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters)

巻: 32  号: 3B  ページ: L383-L385  発行年: 1993年03月15日 
JST資料番号: F0599B  ISSN: 0021-4922  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 短報  発行国: 日本 (JPN)  言語: 英語 (EN)
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