文献
J-GLOBAL ID:200902167221541700
整理番号:93A0870901
低温の純粋アルゴン中でのエピタキシャルTl2Ba2CaCu2O8薄膜の形成
Formation of epitaxial Tl2Ba2CaCu2O8 thin films at low temperature in pure argon.
著者 (7件):
YAN S L
(Nankai Univ., Tianjin, CHN)
,
FANG L
(Nankai Univ., Tianjin, CHN)
,
SONG Q X
(Nankai Univ., Tianjin, CHN)
,
YAN J
(Nankai Univ., Tianjin, CHN)
,
ZHU Y P
(Nankai Univ., Tianjin, CHN)
,
CHEN J H
(Nankai Univ., Tianjin, CHN)
,
ZHANG S B
(Nankai Univ., Tianjin, CHN)
資料名:
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻:
63
号:
13
ページ:
1845-1847
発行年:
1993年09月27日
JST資料番号:
H0613A
ISSN:
0003-6951
CODEN:
APPLAB
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)