文献
J-GLOBAL ID:200902167687988705
整理番号:98A0990009
極紫外線リソグラフィーのマスク技術
Mask technology of extreme ultraviolet lithography.
著者 (4件):
KINOSHITA H
(Himeji Inst. Technol., Hyogo, JPN)
,
WATANABE T
(Himeji Inst. Technol., Hyogo, JPN)
,
OZAWA A
(NTT Advanced Technol. Corp., Kanagawa, JPN)
,
NIIBE M
(Himeji Inst. Technol., Hyogo, JPN)
資料名:
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻:
3412
ページ:
358-368
発行年:
1998年
JST資料番号:
D0943A
ISSN:
0277-786X
CODEN:
PSISDG
資料種別:
会議録 (C)
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)