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文献
J-GLOBAL ID:200902167709649683   整理番号:99A0609730

193nmステップアンドスキャン(step and scan)リソグラフィーにおける最近の進歩

Recent advancements in 193 nm step and scan lithography.
著者 (7件):
GOETHALS A M
(IMEC, Leuven, BEL)
JAENEN P
(IMEC, Leuven, BEL)
POLLERS I
(IMEC, Leuven, BEL)
VAN ROEY F
(IMEC, Leuven, BEL)
RONSE K
(IMEC, Leuven, BEL)
HESKAMP B
(ASML, Veldhoven, NLD)
DAVIES G
(ASML, Veldhoven, NLD)

資料名:
Journal of Photopolymer Science and Technology  (Journal of Photopolymer Science and Technology)

巻: 12  号:ページ: 445-455  発行年: 1999年 
JST資料番号: L0202A  ISSN: 0914-9244  CODEN: JSTEEW  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 英語 (EN)
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