文献
J-GLOBAL ID:200902167735297000
整理番号:01A0398870
Si1-xGex合金層の固相結晶化
Solid-phase crystallization of Si1-xGex alloy layers.
著者 (5件):
YAMAGUCHI S
(Hitachi Ltd., Tokyo, JPN)
,
SUGII N
(Hitachi Ltd., Tokyo, JPN)
,
PARK S K
(Hitachi Ltd., Tokyo, JPN)
,
NAKAGAWA K
(Yamanashi Univ., Yamanashi, JPN)
,
MIYAO M
(Kyushu Univ., Fukuoka, JPN)
資料名:
Journal of Applied Physics
(Journal of Applied Physics)
巻:
89
号:
4
ページ:
2091-2095
発行年:
2001年02月15日
JST資料番号:
C0266A
ISSN:
0021-8979
CODEN:
JAPIAU
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)