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文献
J-GLOBAL ID:200902167756896230   整理番号:95A0549810

反応性スパッタリングによるRuOx薄膜の特性に及ぼす過剰酸素の影響

Effects of excess oxygen on the properties of reactively sputtered RuOx thin films.
著者 (4件):
LEE J-G
(Korea Inst. Sci. and Technol., Seoul, KOR)
KIM Y T
(Korea Inst. Sci. and Technol., Seoul, KOR)
MIN S-K
(Korea Inst. Sci. and Technol., Seoul, KOR)
CHOH S H
(Korea Univ., Seoul, KOR)

資料名:
Journal of Applied Physics  (Journal of Applied Physics)

巻: 77  号: 10  ページ: 5473-5475  発行年: 1995年05月15日 
JST資料番号: C0266A  ISSN: 0021-8979  CODEN: JAPIAU  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 短報  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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