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文献
J-GLOBAL ID：200902167756896230
整理番号：95A0549810
反応性スパッタリングによるRuOx薄膜の特性に及ぼす過剰酸素の影響
Effects of excess oxygen on the properties of reactively sputtered RuOx thin films.
LEE J-G
(Korea Inst. Sci. and Technol., Seoul, KOR)
,
KIM Y T
(Korea Inst. Sci. and Technol., Seoul, KOR)
,
MIN S-K
(Korea Inst. Sci. and Technol., Seoul, KOR)
,
CHOH S H
(Korea Univ., Seoul, KOR)
資料名：
Journal of Applied Physics
(Journal of Applied Physics)
巻： 77 号： 10 ページ： 5473-5475 発行年： 1995年05月15日
JST資料番号： C0266A ISSN： 0021-8979 CODEN： JAPIAU 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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