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文献
J-GLOBAL ID：200902167850278273
整理番号：00A0382681
管状反応炉とFourier変換赤外分光法を用いたジメチル水素化アルミニウムからのアルミニウムの化学蒸着の反応分析 理論的プロセス最適化手法 I
Reaction Analysis of Aluminum Chemical Vapor Deposition from Dimethyl-aluminum-hydride Using Tabular Reactor and Fourier-Taansform Infrared Spectroscopy. Theoretical Process Optimization Procedure. (1).
SUGIYAMA M
(Univ. Tokyo, Tokyo, JPN)
,
ITOH H
(Semiconductor Academic Res. Center, Tokyo, JPN)
,
AOYAMA J
(Semiconductor Academic Res. Center, Tokyo, JPN)
,
KOMIYAMA H
(Univ. Tokyo, Tokyo, JPN)
,
SHIMOGAKI Y
(Univ. Tokyo, Tokyo, JPN)
資料名：
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 39 号： 3A ページ： 1074-1079 発行年： 2000年03月15日
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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