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J-GLOBAL ID：200902168004697740 整理番号：97A0282693

ECRプラズマCVDによる大面積非晶質シリコン膜の蒸着

Deposition of large area amorphous silicon films by ECR plasma CVD.

著者 (4件)：

UEDA Y

(Kyushu Univ., Fukuoka, JPN)

INOUE Y

(Kyushu Univ., Fukuoka, JPN)

SHINOHARA S

(Kyushu Univ., Fukuoka, JPN)

KAWAI Y

(Kyushu Univ., Fukuoka, JPN)

資料名：

Vacuum (Vacuum)

巻： 48 号： 2 ページ： 119-122 発行年： 1997年02月
JST資料番号： E0347A ISSN： 0042-207X 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：イギリス (GBR) 言語：英語 (EN)

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