文献
J-GLOBAL ID:200902168185466434
整理番号:01A0229693
MOCVD手法により成長したMgおよびSiドープGaN薄膜の光ルミネセンス特性
Photoluminescence characteristics of Mg- and Si-doped GaN thin films grown by MOCVD technique.
著者 (5件):
RAMAIAH K S
(National Cheng Kung Univ., Tainan, TWN)
,
SU Y K
(National Cheng Kung Univ., Tainan, TWN)
,
CHANG S J
(National Cheng Kung Univ., Tainan, TWN)
,
JUANG F S
(National Huwei Inst. Technol., Yunlin, TWN)
,
CHEN C H
(National Cheng Kung Univ., Tainan, TWN)
資料名:
Journal of Crystal Growth
(Journal of Crystal Growth)
巻:
220
号:
4
ページ:
405-412
発行年:
2000年12月
JST資料番号:
B0942A
ISSN:
0022-0248
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)