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文献
J-GLOBAL ID:200902168351602929   整理番号:00A0132698

触媒および非触媒自己制限表面反応を使用したSiO2の原子層堆積

Atomic layer deposition of SiO2 using catalyzed and uncatalyzed self-limiting surface reactions.
著者 (4件):
KLAUS J W
(Univ. Colorado, CO, USA)
SNEH O
(Univ. Colorado, CO, USA)
OTT A W
(Univ. Colorado, CO, USA)
GEORGE S M
(Univ. Colorado, CO, USA)

資料名:
Surface Review and Letters  (Surface Review and Letters)

巻:号: 3/4  ページ: 435-448  発行年: 1999年06月 
JST資料番号: W1109A  ISSN: 0218-625X  資料種別: 逐次刊行物 (A)
発行国: シンガポール (SGP)  言語: 英語 (EN)
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