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文献
J-GLOBAL ID：200902168495299341
整理番号：97A0898043
液浸熱分解過程によるNbドープSrTiO3(100)基板へのエピタキシャルPb(Zr,Ti)O3薄膜の堆積
Preparation of Epitaxial Pb(Zr, Ti)O3 Thin Films on Nb-Doped SrTiO3 (100) Substrates by Dipping-Pyrolysis Process.
HWANG K-S
(National Inst. Materials and Chemical Res., Ibaraki, JPN)
,
MANABE T
(National Inst. Materials and Chemical Res., Ibaraki, JPN)
,
YAMAGUCHI I
(National Inst. Materials and Chemical Res., Ibaraki, JPN)
,
KUMAGAI T
(National Inst. Materials and Chemical Res., Ibaraki, JPN)
,
MIZUTA S
(National Inst. Materials and Chemical Res., Ibaraki, JPN)
資料名：
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 36 号： 8 ページ： 5221-5225 発行年： 1997年08月
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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