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文献
J-GLOBAL ID：200902168616312413
整理番号：93A0851621
Application of Constant Absorptivity Ring(CAR) to improve polysilicon thickness uniformity in a rapid thermal chemical vapor deposition reactor.
SANGANERIA M K
(North Carolina State Univ., NC)
,
OEZTUERK M C
(North Carolina State Univ., NC)
資料名：
Rapid Thermal and Integrated Processing 2
(Rapid Thermal and Integrated Processing 2)
ページ： 19-23 発行年： 1993年
JST資料番号： K19930495 ISBN： 1-55899-199-9 資料種別： 会議録 (C)
発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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