文献
J-GLOBAL ID:200902169025880842
整理番号:98A0881715
窒化アルミニウム表面における電子親和力
Electron affinity at aluminum nitride surfaces.
著者 (4件):
WU C I
(Princeton Univ., New Jersey)
,
KAHN A
(Princeton Univ., New Jersey)
,
HELLMAN E S
(Bell Lab., New Jersey)
,
BUCHANAN D N E
(Bell Lab., New Jersey)
資料名:
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻:
73
号:
10
ページ:
1346-1348
発行年:
1998年09月07日
JST資料番号:
H0613A
ISSN:
0003-6951
CODEN:
APPLAB
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)