文献
J-GLOBAL ID:200902169114946105
整理番号:97A0950370
DCマグネトロン反応性スパッタによるPb(Zr,Ti)O3膜の堆積時において,電子サイクロトロン共鳴プラズマによる酸素の活性化がPbの挿入に及ぼす効果
Effect of Activation of Oxygen by Electron Cyclotron Resonance Plasma on the Incorporation of Pb in the Deposition of Pb(Zr,Ti)O3 Films by DC Magnetron Reactive Sputtering.
著者 (5件):
KIM S-T
(Samsung Electronics Co., Ltd., Suwon, KOR)
,
LEE M-Y
(Samsung Electronics Co., Ltd., Suwon, KOR)
,
KIM H-H
(Korea Advanced Inst. Sci. and Technol., Teajon, KOR)
,
KIM Y-I
(Korea Advanced Inst. Sci. and Technol., Teajon, KOR)
,
LEE W-J
(Korea Advanced Inst. Sci. and Technol., Teajon, KOR)
資料名:
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻:
36
号:
9A
ページ:
5663-5669
発行年:
1997年09月
JST資料番号:
G0520B
ISSN:
0021-4922
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
日本 (JPN)
言語:
英語 (EN)