文献
J-GLOBAL ID:200902169152334849
整理番号:94A0897560
パルスエキシマレーザによる多結晶シリコン薄膜の融解過程での固体-液体界面の温度の測定
Measurement of solid-liquid interface temperature during pulsed excimer laser melting of polycrystalline silicon films.
著者 (3件):
XU X
(Univ. California, California)
,
RUSSO R E
(Lawrence Berkeley Lab., California)
,
GRIGOROPOULOS C P
(Univ. California, California)
資料名:
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻:
65
号:
14
ページ:
1745-1747
発行年:
1994年10月03日
JST資料番号:
H0613A
ISSN:
0003-6951
CODEN:
APPLAB
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)