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J-GLOBAL ID：200902169152991564 整理番号：95A0554860

ポリフェニルシルセスキオキサンの反射防止膜としての応用検討

Application of Polysilsesquioxane to Anti-reflection Coatings.

著者 (4件)：

南伸太朗

(三菱電機)

足立悦志

(三菱電機)

西村浩之

(三菱電機)

足達広士

(三菱電機)

資料名：

応用物理学関係連合講演会講演予稿集 (Extended Abstracts. Spring Meeting. Japan Society of Applied Physics and Related Societies)

巻： 42nd 号： Pt 2 ページ： 597 発行年： 1995年03月
JST資料番号： Y0054A 資料種別：会議録 (C)
発行国：日本 (JPN) 言語：日本語 (JA)

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