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文献
J-GLOBAL ID:200902169152991564   整理番号:95A0554860

ポリフェニルシルセスキオキサンの反射防止膜としての応用検討

Application of Polysilsesquioxane to Anti-reflection Coatings.
著者 (4件):
南伸太朗
(三菱電機)
足立悦志
(三菱電機)
西村浩之
(三菱電機)
足達広士
(三菱電機)

資料名:
応用物理学関係連合講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Spring Meeting. Japan Society of Applied Physics and Related Societies)

巻: 42nd  号: Pt 2  ページ: 597  発行年: 1995年03月 
JST資料番号: Y0054A  資料種別: 会議録 (C)
発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
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