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文献
J-GLOBAL ID：200902169465028862
整理番号：00A1054748
シリコンウエハ表面上の微粒子・微小欠陥による光散乱 散乱光強度およびレンズによる像形成の計算
Light Scattering by Small particles and Small Defects on the Silicon Wafer Surface. Calculations of Scattering Light Intensity and Optical Image through a Lens.
片岡俊彦
(大阪大 大学院 工学研究科)
,
井上晴行
(大阪大 大学院 工学研究科)
,
遠藤勝義
(大阪大 大学院 工学研究科)
,
押鐘寧
(大阪大 大学院 工学研究科)
,
森勇蔵
(大阪大 大学院 工学研究科)
,
中野元博
(大阪大 大学院 工学研究科)
,
和田勝男
(シリコンテクノロジー)
,
安弘
(大阪電通大 工)
資料名：
精密工学会誌
(Journal of the Japan Society for Precision Engineering)
巻： 66 号： 11 ページ： 1716-1722 発行年： 2000年11月05日
JST資料番号： F0268A ISSN： 0912-0289 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 日本語 (JA)
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