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文献
J-GLOBAL ID:200902169465028862   整理番号:00A1054748

シリコンウエハ表面上の微粒子・微小欠陥による光散乱 散乱光強度およびレンズによる像形成の計算

Light Scattering by Small particles and Small Defects on the Silicon Wafer Surface. Calculations of Scattering Light Intensity and Optical Image through a Lens.
著者 (8件):
片岡俊彦
(大阪大 大学院 工学研究科)
井上晴行
(大阪大 大学院 工学研究科)
遠藤勝義
(大阪大 大学院 工学研究科)
押鐘寧
(大阪大 大学院 工学研究科)
森勇蔵
(大阪大 大学院 工学研究科)
中野元博
(大阪大 大学院 工学研究科)
和田勝男
(シリコンテクノロジー)
安弘
(大阪電通大 工)

資料名:
精密工学会誌  (Journal of the Japan Society for Precision Engineering)

巻: 66  号: 11  ページ: 1716-1722  発行年: 2000年11月05日 
JST資料番号: F0268A  ISSN: 0912-0289  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
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