文献
J-GLOBAL ID:200902169926511218
整理番号:97A0742789
デュアルビーム法を用いた最適化,飛行時間二次イオン質量分析による深さプロフィリング
Optimized time-of-flight secondary ion mass spectroscopy depth profiling with a dual beam technique.
著者 (4件):
ILTGEN K
(Univ. Muenster, Muenster, DEU)
,
BENDEL C
(Univ. Muenster, Muenster, DEU)
,
BENNINGHOVEN A
(Univ. Muenster, Muenster, DEU)
,
NIEHUIS E
(Ion-Tof GmbH, Muenster, DEU)
資料名:
Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films
(Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films)
巻:
15
号:
3 Pt 1
ページ:
460-464
発行年:
1997年05月
JST資料番号:
C0789B
ISSN:
0734-2101
CODEN:
JVTAD6
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)