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文献
J-GLOBAL ID：200902169932912429
整理番号：03A0055931
対向ターゲットスパッタリングにより堆積したTiO2膜の性質に及ぼす作用ガス圧及びAr対O2比の影響
Dependence of working gas pressure and ratio of Ar to O2 on properties of TiO2 films deposited by facing targets sputtering.
TAKAHASHI T
(Toyama Univ., Toyama, JPN)
,
NAKABAYASHI H
(Toyama Univ., Toyama, JPN)
資料名：
Thin Solid Films
(Thin Solid Films)
巻： 420/421 ページ： 433-437 発行年： 2002年12月02日
JST資料番号： B0899A ISSN： 0040-6090 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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