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文献
J-GLOBAL ID：200902170493372623
整理番号：97A0138343
フッ素添加がPECVD-SiO2薄膜の構造および光学特性に及ぼす影響
Effects of fluorine addition on the structure and optical properties of SiO2 films formed by plasma-enhanced chemical vapor deposition.
石井啓介
(早稲田大 理工)
,
高見明宏
(早稲田大 理工)
,
大木義路
(早稲田大 理工)
資料名：
電気学会誘電・絶縁材料研究会資料
(電気学会研究会資料)
巻： DEI-96 号： 132-145 ページ： 109-117 発行年： 1996年12月10日
JST資料番号： Z0908B 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 日本語 (JA)
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