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文献
J-GLOBAL ID:200902170493372623   整理番号:97A0138343

フッ素添加がPECVD-SiO2薄膜の構造および光学特性に及ぼす影響

Effects of fluorine addition on the structure and optical properties of SiO2 films formed by plasma-enhanced chemical vapor deposition.
著者 (3件):
石井啓介
(早稲田大 理工)
高見明宏
(早稲田大 理工)
大木義路
(早稲田大 理工)

資料名:
電気学会誘電・絶縁材料研究会資料  (電気学会研究会資料)

巻: DEI-96  号: 132-145  ページ: 109-117  発行年: 1996年12月10日 
JST資料番号: Z0908B  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
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