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文献
J-GLOBAL ID:200902170495329890   整理番号:02A0642852

SiNバッファ層がある高性能の348nmAlGaN/GaN基紫外発光ダイオード

High-Performance 348 nm AlGaN/GaN-Based Ultraviolet-Light-Emitting Diode with a SiN Buffer Layer.
著者 (9件):
LEE Y-B
(Univ. Tokushima, Tokushima, JPN)
WANG T
(Univ. Tokushima, Tokushima, JPN)
LIU Y-H
(Univ. Tokushima, Tokushima, JPN)
AO J-P
(Univ. Tokushima, Tokushima, JPN)
IZUMI Y
(Univ. Tokushima, Tokushima, JPN)
LACROIX Y
(Univ. Tokushima, Tokushima, JPN)
LI H-D
(Univ. Tokushima, Tokushima, JPN)
BAI J
(Univ. Tokushima, Tokushima, JPN)
SAKAI S
(Univ. Tokushima, Tokushima, JPN)

資料名:
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)

巻: 41  号: 7A  ページ: 4450-4453  発行年: 2002年07月15日 
JST資料番号: G0520B  ISSN: 0021-4922  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 英語 (EN)
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