文献
J-GLOBAL ID:200902170495671873
整理番号:01A1010208
Si3N4/AlGaN/GaN金属-絶縁体-半導体ヘテロ構造電界効果トランジスタ
Si3N4/AlGaN/GaN-metal-insulator-semiconductor heterostructure field-effect transistors.
著者 (8件):
HU X
(Univ. South Carolina, South Carolina)
,
KOUDYMOV A
(Univ. South Carolina, South Carolina)
,
SIMIN G
(Univ. South Carolina, South Carolina)
,
YANG J
(Univ. South Carolina, South Carolina)
,
ASIF KHAN M
(Univ. South Carolina, South Carolina)
,
TARAKJI A
(Sensor Electronic Technol., Inc., New York)
,
SHUR M S
(Sensor Electronic Technol., Inc., New York)
,
GASKA R
(Sensor Electronic Technol., Inc., New York)
資料名:
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻:
79
号:
17
ページ:
2832-2834
発行年:
2001年10月22日
JST資料番号:
H0613A
ISSN:
0003-6951
CODEN:
APPLAB
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)