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文献
J-GLOBAL ID：200902170934707480
整理番号：99A0780037
有機金属化学蒸着によるルテニウム薄膜の堆積と特性付け
Deposition and Characterization of Ru Thin Films Prepared by Metallorganic Chemical Vapor Deposition.
KANG S Y
(Seoul National Univ., Seoul, KOR)
,
CHOI K H
(Seoul National Univ., Seoul, KOR)
,
LEE S K
(Seoul National Univ., Seoul, KOR)
,
HWANG C S
(Seoul National Univ., Seoul, KOR)
,
KIM H J
(Seoul National Univ., Seoul, KOR)
資料名：
電子情報通信学会技術研究報告
(IEICE Technical Report (Institute of Electronics, Information and Communication Engineers))
巻： 99 号： 230(ED99 113-144) ページ： 139-144 発行年： 1999年07月23日
JST資料番号： S0532B ISSN： 0913-5685 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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