文献
J-GLOBAL ID:200902171123140584
整理番号:93A0631366
Amorphous Silicon Carbide Films by Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition.
著者 (3件):
TONG L
(Case Western Reserve Univ., Ohio)
,
MEHREGANY M
(Case Western Reserve Univ., Ohio)
,
TANG W C
(Ford Motor Co., Michigan)
資料名:
Technical Digest. IEEE Micro Electro Mechanical Systems
(Technical Digest. IEEE Micro Electro Mechanical Systems)
巻:
6th
ページ:
242-247
発行年:
1993年
JST資料番号:
W0377A
ISSN:
1084-6999
資料種別:
会議録 (C)
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)