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文献
J-GLOBAL ID：200902171267305170
整理番号：97A0194305
200nm分解能を持つ多目的の回折光学素子のためのワンステップ電子ビームリソグラフィー
One step electron-beam lithography for multipurpose diffractive optical elements with 200nm resolution.
DI FABRIZIO E
(Inst. Elettronica dello Stato Solido, CNR, Rome, ITA)
,
GRELLA L
(Inst. Elettronica dello Stato Solido, CNR, Rome, ITA)
,
BACIOCCHI M
(Inst. Elettronica dello Stato Solido, CNR, Rome, ITA)
,
GENTILI M
(Inst. Elettronica dello Stato Solido, CNR, Rome, ITA)
,
PESCHIAROLI D
(Inst. Elettronica dello Stato Solido, CNR, Rome, ITA)
,
MASTROGIACOMO L
(Inst. Elettronica dello Stato Solido, CNR, Rome, ITA)
,
MAGGIORA R
(Inst. Elettronica dello Stato Solido, CNR, Rome, ITA)
資料名：
Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures
(Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures)
巻： 14 号： 6 ページ： 3855-3859 発行年： 1996年11月
JST資料番号： E0974A ISSN： 1071-1023 CODEN： JVTBD9 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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