文献
J-GLOBAL ID:200902171295756560
整理番号:04A0074581
ポリシリコンTFTに対するオゾン酸化の効果
Effects of Ozone Oxidation for Poly-Si TFTs.
著者 (2件):
EBIKO Y
(Fujitsu Lab., Ltd., Atsugi, JPN)
,
MISHIMA Y
(Fujitsu Lab., Ltd., Atsugi, JPN)
資料名:
Proceedings of the International Display Workshops
(Proceedings of the International Display Workshops)
巻:
9th
ページ:
271-274
発行年:
2002年
JST資料番号:
L4269A
ISSN:
1883-2490
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
日本 (JPN)
言語:
英語 (EN)