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文献
J-GLOBAL ID：200902171349363861
整理番号：97A0902798
深X線リソグラフィーによるフォトニック結晶の作製
Fabrication of photonic crystals by deep x-ray lithography.
FEIERTAG G
(Inst. Microtechnol. Mainz GmbH, Mainz, DEU)
,
LEHR H
(Inst. Microtechnol. Mainz GmbH, Mainz, DEU)
,
SCHMIDT M
(Inst. Microtechnol. Mainz GmbH, Mainz, DEU)
,
SIGALAS M M
(Iowa State Univ., Iowa)
,
SOUKOULIS C M
(Iowa State Univ., Iowa)
,
KIRIAKIDIS G
(Foundation for Res. and Technol. Hellas, Crete, GRC)
,
PEDERSEN T
(Foundation for Res. and Technol. Hellas, Crete, GRC)
,
KUHL J
(Max-Planck-Inst. Festkoerperforsch., Stuttgart, DEU)
,
KOENIG W
(Max-Planck-Inst. Festkoerperforsch., Stuttgart, DEU)
資料名：
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻： 71 号： 11 ページ： 1441-1443 発行年： 1997年09月15日
JST資料番号： H0613A ISSN： 0003-6951 CODEN： APPLAB 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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