文献
J-GLOBAL ID:200902171620729982
整理番号:02A0144805
ULSI相互接続用の摩擦学的被覆層から低k誘電体まで
From tribological coatings to low-k dielectrics for ULSI interconnects.
著者 (1件):
GRILL A
(T.J. Watson Res. Center, NY, USA)
資料名:
Thin Solid Films
(Thin Solid Films)
巻:
398/399
ページ:
527-532
発行年:
2001年11月01日
JST資料番号:
B0899A
ISSN:
0040-6090
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)