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文献
J-GLOBAL ID：200902171687332823
整理番号：01A0476292
結晶性及び非結晶性SrBi2Ta2O9薄膜の構造及び電気特性に対するアルゴンを用いたドライエッチングの効果
Influence of Dry Etching using Argon on Structural and Electrical Properties of Crystalline and Non-Crystalline SrBi2Ta2O9 Thin Films.
HARTNER W
(Siemens AG, Munich, DEU)
,
SCHINDLER G
(Siemens AG, Munich, DEU)
,
WEINRICH V
(Siemens AG, Munich, DEU)
,
AHLSTEDT M
(Siemens AG, Munich, DEU)
,
SCHROEDER H
(Forschungszentrum Juelich GmbH, Juelich, DEU)
,
WASER R
(Forschungszentrum Juelich GmbH, Juelich, DEU)
,
DEHM C
(Siemens AG, Munich, DEU)
,
MAZURE C
(Siemens AG, Munich, DEU)
資料名：
Integrated Ferroelectrics
(Integrated Ferroelectrics)
巻： 27 号： 1/4 ページ： 213-225 発行年： 1999年11月
JST資料番号： W0539A ISSN： 1058-4587 CODEN： IFEREU 資料種別： 逐次刊行物 (A)
発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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