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文献
J-GLOBAL ID：200902171922385450
整理番号：02A0901746
シリコンからのポリスチレン粒子のKrF乾式レーザクリーニングにおける除去とアブレーション
Removal versus ablation in KrF dry laser cleaning of polystyrene particles from silicon.
KUDRYASHOV S I
(Florida State Univ., Florida)
,
ALLEN S D
(Florida State Univ., Florida)
資料名：
Journal of Applied Physics
(Journal of Applied Physics)
巻： 92 号： 9 ページ： 5159-5162 発行年： 2002年11月01日
JST資料番号： C0266A ISSN： 0021-8979 CODEN： JAPIAU 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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