文献
J-GLOBAL ID:200902171986229346
整理番号:98A0217129
化学増幅型深紫外レジストにおける溶解特性と酸拡散への高分子構造の影響
Polymer structure effect on dissolution characteristics and acid diffusion in chemically amplified deep ultraviolet resists.
著者 (6件):
ITANI T
(NEC Corp., Kanagawa, JPN)
,
YOSHINO H
(NEC Corp., Kanagawa, JPN)
,
HASHIMOTO S
(NEC Corp., Kanagawa, JPN)
,
YAMANA M
(NEC Corp., Kanagawa, JPN)
,
SAMOTO N
(NEC Corp., Kanagawa, JPN)
,
KASAMA K
(NEC Corp., Kanagawa, JPN)
資料名:
Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures
(Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures)
巻:
15
号:
6
ページ:
2541-2544
発行年:
1997年11月
JST資料番号:
E0974A
ISSN:
1071-1023
CODEN:
JVTBD9
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)