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文献
J-GLOBAL ID：200902172149425974
整理番号：97A0667560
高密度CF4プラズマのアフタグローにおけるCFおよびCF2ラジカルの損失プロセス
Loss Processes of CF and CF2 Radicals in the Afterglow of High-Density CF4 Plasmas.
SUZUKI C
(Nagoya Univ., Nagoya, JPN)
,
SASAKI K
(Nagoya Univ., Nagoya, JPN)
,
KADOTA K
(Nagoya Univ., Nagoya, JPN)
資料名：
Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters)
巻： 36 号： 6B ページ： L824-L826 発行年： 1997年06月15日
JST資料番号： F0599B ISSN： 0021-4922 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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