文献
J-GLOBAL ID:200902172213908194
整理番号:95A0877987
Study of SiC X-ray Mask Distortion Induced by Backetching Receding Subtractive Fabrication Process.
著者 (9件):
TSUBOI S
(SORTEC Corp., Ibaraki, JPN)
,
SHOKI T
(HOYA Corp., Tokyo, JPN)
,
OHTA T
(Oki Electric Ind. Co., Ltd., Tokyo, JPN)
,
OKUYAMA H
(SORTEC Corp., Ibaraki, JPN)
,
ASHIKAGA K
(SORTEC Corp., Ibaraki, JPN)
,
YAMASHITA Y
(SORTEC Corp., Ibaraki, JPN)
,
OHKUBO R
(HOYA Corp., Tokyo, JPN)
,
YAMAGUCHI Y
(HOYA Corp., Tokyo, JPN)
,
HOGA H
(Oki Electric Ind. Co., Ltd., Tokyo, JPN)
資料名:
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻:
2512
ページ:
160-166
発行年:
1995年
JST資料番号:
D0943A
ISSN:
0277-786X
CODEN:
PSISDG
資料種別:
会議録 (C)
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)