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文献
J-GLOBAL ID：200902172270395420
整理番号：01A0350961
窒化炭素薄膜の構造と結合特性に及ぼすパルスレーザ蒸着中の低エネルギー窒素イオンビームの照射効果
Irradiation effect of low energy nitrogen-ion beam during pulsed laser deposition process on the structural and bonding properties of carbon-nitride thin films.
ZHAO J P
(Shikoku National Industrial Res. Inst., Kagawa, JPN)
,
CHEN Z Y
(Shikoku National Industrial Res. Inst., Kagawa, JPN)
,
YANO T
(Shikoku National Industrial Res. Inst., Kagawa, JPN)
,
OOIE T
(Shikoku National Industrial Res. Inst., Kagawa, JPN)
,
YONEDA M
(Shikoku National Industrial Res. Inst., Kagawa, JPN)
資料名：
Journal of Applied Physics
(Journal of Applied Physics)
巻： 89 号： 3 ページ： 1580-1587 発行年： 2001年02月01日
JST資料番号： C0266A ISSN： 0021-8979 CODEN： JAPIAU 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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