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文献
J-GLOBAL ID：200902172625467923
整理番号：00A0086125
a-Si:H膜蒸着に用いるシランプラズマ中の原子状水素温度
Atomic hydrogen temperature in silane plasmas used for the deposition of a-Si:H films.
MIYAZAKI K
(Kurume National Coll. Technol., Fukuoka, JPN)
,
KAJIWARA T
(Kyushu Univ., Fukuoka, JPN)
,
UCHINO K
(Kyushu Univ., Fukuoka, JPN)
,
MURAOKA K
(Kyushu Univ., Fukuoka, JPN)
,
OKADA T
(Kyushu Univ., Fukuoka, JPN)
,
MAEDA M
(Kyushu Univ., Fukuoka, JPN)
資料名：
Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films
(Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films)
巻： 17 号： 6 ページ： 3197-3201 発行年： 1999年11月
JST資料番号： C0789B ISSN： 0734-2101 CODEN： JVTAD6 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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