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文献
J-GLOBAL ID：200902172835955254
整理番号：98A0458533
化学的にパターン形成された基板上の薄膜ブロック共重合体のモルホロジー
Morphology of thin block copolymer films on chemically patterned substrates.
CHEN H
(Kansas State Univ., Kansas)
,
CHAKRABARTI A
(Kansas State Univ., Kansas)
資料名：
Journal of Chemical Physics
(Journal of Chemical Physics)
巻： 108 号： 16 ページ： 6897-6905 発行年： 1998年04月22日
JST資料番号： C0275A ISSN： 0021-9606 CODEN： JCPSA6 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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