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文献
J-GLOBAL ID:200902173217259995   整理番号:00A0966435

タンタルエトキシドと塩化タンタルの逐次および同時パルス注入による酸化タンタルの原子層蒸着と化学気相蒸着

Atomic Layer Deposition and Chemical Vapor Deposition of Tantalum Oxide by Successive and Simultaneous Pulsing of Tantalum Ethoxide and Tantalum Chloride.
著者 (3件):
KUKLI K
(Univ. Helsinki, FIN)
RITALA M
(Univ. Helsinki, FIN)
LESKELAE M
(Univ. Helsinki, FIN)

資料名:
Chemistry of Materials  (Chemistry of Materials)

巻: 12  号:ページ: 1914-1920  発行年: 2000年07月 
JST資料番号: T0893A  ISSN: 0897-4756  CODEN: CMATEX  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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