文献
J-GLOBAL ID:200902173331615467
整理番号:95A0252702
Si基板上へのTiO2:Nアナターゼ薄膜の有機金属化学蒸着
Metalorganic chemical vapor deposition of TiO2:N anatase thin film on Si substrate.
著者 (6件):
LEE D H
(Korea Inst. Science and Technology, Seoul, KOR)
,
CHO Y S
(New York State Coll. Ceramics, New York)
,
YI W I
(Myoungji Univ., Kyunggido, KOR)
,
KIM T S
(Korea Inst. Science and Technology, Seoul, KOR)
,
LEE J K
(Korea Inst. Science and Technology, Seoul, KOR)
,
JUNG H J
(Korea Inst. Science and Technology, Seoul, KOR)
資料名:
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻:
66
号:
7
ページ:
815-816
発行年:
1995年02月13日
JST資料番号:
H0613A
ISSN:
0003-6951
CODEN:
APPLAB
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)