文献
J-GLOBAL ID:200902173690978010
整理番号:00A0437151
Siの拡散を使うGaN膜のコンタクト性能の改善
Improved contact performance of GaN film using Si diffusion.
著者 (5件):
LIN C F
(National Chiao Tung Univ., Hsinchu, TWN)
,
CHENG H C
(National Chiao Tung Univ., Hsinchu, TWN)
,
CHI G C
(National Central Univ., Chungli, TWN)
,
BU C J
(National Chiao Tung Univ., Hsinchu, TWN)
,
FENG M S
(National Chiao Tung Univ., Hsinchu, TWN)
資料名:
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻:
76
号:
14
ページ:
1878-1880
発行年:
2000年04月03日
JST資料番号:
H0613A
ISSN:
0003-6951
CODEN:
APPLAB
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)