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文献
J-GLOBAL ID：200902173690978010
整理番号：00A0437151
Siの拡散を使うGaN膜のコンタクト性能の改善
Improved contact performance of GaN film using Si diffusion.
LIN C F
(National Chiao Tung Univ., Hsinchu, TWN)
,
CHENG H C
(National Chiao Tung Univ., Hsinchu, TWN)
,
CHI G C
(National Central Univ., Chungli, TWN)
,
BU C J
(National Chiao Tung Univ., Hsinchu, TWN)
,
FENG M S
(National Chiao Tung Univ., Hsinchu, TWN)
資料名：
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻： 76 号： 14 ページ： 1878-1880 発行年： 2000年04月03日
JST資料番号： H0613A ISSN： 0003-6951 CODEN： APPLAB 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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