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文献
J-GLOBAL ID：200902173710757163
整理番号：98A0791671
大気圧プラズマジェットを用いた材料のエッチング
Etching materials with an atmospheric-pressure plasma jet.
JEONG J Y
(Univ. California, CA, USA)
,
BABAYAN S E
(Univ. California, CA, USA)
,
TU V J
(Univ. California, CA, USA)
,
PARK J
(Los Alamos National Lab., NM, USA)
,
HENINS I
(Univ. California, CA, USA)
,
HICKS R F
(Univ. California, CA, USA)
,
SELWYN G S
(Los Alamos National Lab., NM, USA)
資料名：
Plasma Sources Science and Technology
(Plasma Sources Science and Technology)
巻： 7 号： 3 ページ： 282-285 発行年： 1998年08月
JST資料番号： W0479A ISSN： 0963-0252 CODEN： PSTEEU 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： イギリス (GBR) 言語： 英語 (EN)
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