文献
J-GLOBAL ID:200902173769537400
整理番号:98A0852232
極性脂環式高分子系193nmフォトレジストの性能の改善
Improving the Performance of 193nm Photoresists Based on Alicyclic Polymers.
著者 (6件):
PATTERSON K
(Univ. Texas at Austin, TX)
,
OKOROANYANWU U
(Univ. Texas at Austin, TX)
,
SHIMOKAWA T
(Univ. Texas at Austin, TX)
,
CHO S
(Univ. Texas at Austin, TX)
,
BYERS J
(SEMATECH, TX)
,
WILLSON C G
(Univ. Texas at Austin, TX)
資料名:
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻:
3333
号:
Pt.1
ページ:
425-437
発行年:
1998年
JST資料番号:
D0943A
ISSN:
0277-786X
CODEN:
PSISDG
資料種別:
会議録 (C)
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)