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文献
J-GLOBAL ID：200902173841198399
整理番号：97A0035822
a-Si1-xCx:H膜における光学的および電気的特性の熱処理依存性
Dependence of Optical and Electrical Properties of a-Si1-xCx:H Films on Thermal Annealing.
大久保努
(東京電機大 工)
,
本橋光也
(東京電機大 工)
,
本間和明
(東京電機大 工)
資料名：
電子情報通信学会論文誌 C-2
(Transactions of the Institute of Electronics, Information and Communication Engineers. C-2)
巻： 79 号： 11 ページ： 682-690 発行年： 1996年11月
JST資料番号： L0196A ISSN： 0915-1907 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 日本語 (JA)
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