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文献
J-GLOBAL ID：200902173870681317
整理番号：99A0675003
多孔質ポリシリコン膜を用いた効率的で安定な面放出冷陰極の機構
Mechanism of efficient and stable surface-emitting cold cathode based on porous polycrystalline silicon films.
KOMODA T
(Matsushita Electric Works Ltd., Osaka, JPN)
,
SHENG X
(Tokyo Univ. Agriculture and Technol., Tokyo, JPN)
,
KOSHIDA N
(Tokyo Univ. Agriculture and Technol., Tokyo, JPN)
資料名：
Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures
(Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures)
巻： 17 号： 3 ページ： 1076-1079 発行年： 1999年05月
JST資料番号： E0974A ISSN： 1071-1023 CODEN： JVTBD9 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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