文献
J-GLOBAL ID:200902173894134724
整理番号:93A0844521
Phase-Shift Reticles for the Fabrication of sub-half micron Gates in GaAs Integrated Circuits using optical Stepper Lithography.
著者 (4件):
SCHNEIDER J
(Fraunhofer-Inst. Angewandte Festkoerperphysik, Freiburg, DEU)
,
BECKER F
(Fraunhofer-Inst. Angewandte Festkoerperphysik, Freiburg, DEU)
,
RAYNOR B
(Fraunhofer-Inst. Angewandte Festkoerperphysik, Freiburg, DEU)
,
WEISMANN B
(Fraunhofer-Inst. Angewandte Festkoerperphysik, Freiburg, DEU)
資料名:
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻:
1927
号:
Pt 2
ページ:
632-642
発行年:
1993年
JST資料番号:
D0943A
ISSN:
0277-786X
CODEN:
PSISDG
資料種別:
会議録 (C)
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)