文献
J-GLOBAL ID:200902174016036374
整理番号:02A0862241
ビスマスナノ細線の応力誘起成長
Stress-induced growth of bismuth nanowires.
著者 (5件):
CHENG Y-T
(General Motors Res. and Dev. Center, Michigan)
,
WEINER A M
(General Motors Res. and Dev. Center, Michigan)
,
WONG C A
(General Motors Res. and Dev. Center, Michigan)
,
BALOGH M P
(General Motors Res. and Dev. Center, Michigan)
,
LUKITSCH M J
(General Motors Res. and Dev. Center, Michigan)
資料名:
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻:
81
号:
17
ページ:
3248-3250
発行年:
2002年10月21日
JST資料番号:
H0613A
ISSN:
0003-6951
CODEN:
APPLAB
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)