文献
J-GLOBAL ID:200902174251242305
整理番号:00A0154883
高温で安定な電極材料としてのIr-Ta-Oの研究と強誘電性SrBi2Ta2O9薄膜蒸着への応用
Studies of Ir-Ta-O as High Temperature Stable Electrode Material and Its Application for Ferroelectric SrBi2Ta2O9 Thin Film Deposition.
著者 (5件):
ZHANG F
(Sharp Laboratories of America, Inc., WA, USA)
,
MAA J-S
(Sharp Laboratories of America, Inc., WA, USA)
,
HSU S T
(Sharp Laboratories of America, Inc., WA, USA)
,
OHNISHI S
(Sharp Corp., Nara, JPN)
,
ZHEN W
(Sharp Corp., Nara, JPN)
資料名:
Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters)
巻:
38
号:
12A
ページ:
L1447-L1449
発行年:
1999年12月01日
JST資料番号:
F0599B
ISSN:
0021-4922
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
日本 (JPN)
言語:
英語 (EN)