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文献
J-GLOBAL ID：200902174267691657
整理番号：93A0796731
還元剤浸透法による無電解ニッケル皮膜析出速度に及ぼす浴条件の影響
Effects of Bath Condition on Plating Rate of Electroless Ni Films Prepared by Reducing Agent Permeation Method.
元根正晴
(大阪工技試)
,
西村靖雄
(大阪工技試)
,
水畑穣
(大阪工技試)
,
小黒啓介
(大阪工技試)
,
竹中啓恭
(大阪工技試)
資料名：
表面技術
(Journal of the Surface Finishing Society of Japan)
巻： 44 号： 9 ページ： 737-741 発行年： 1993年09月
JST資料番号： G0441B ISSN： 0915-1869 CODEN： HYGIEX 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 日本語 (JA)
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